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第二十一章 我在青春伤痛文学搞科研(21)[2/2页]

快穿:背靠国家的我杀疯了 兔失我鹿

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      苏酥平静地说道。
      光刻机,制造芯片必备的设备!
      因为西方国家的封锁,华夏一直没有研发出自己的光刻机。
      因此,华夏的芯片事业一直止步不前。
      “是的,苏酥同学真聪明。”
      负责人惊讶又欣慰地看着苏酥说道。
      “什么嘛老李,得叫苏教授,十七岁的副教授,你见过没有?”
      武平笑着拍了拍负责人的肩膀。
      “不好意思啊苏教授,我们这次请两位过来的目的,就是帮忙制造光刻机,也希望两位能够出全力啊。”
      负责人一脸期待地对苏酥和武平说道。
      “那是一定。”
      苏酥点头回道。
      制造光刻机,尤其是高端光刻机,是一项很复杂的工程。
      目前国际最领先的技术也只能做到小于5纳米的芯片晶圆,而且也只能用euv光刻机生产。
      更别说,现在世界也只有贺兰国和樱花国有能力制造出尖端的光刻机。
      苏酥了解了现在课题小组的进展,发现现在制造光刻机还有以下几个难题:
      (1)光源问题,这是实现各种微米甚至纳米级别的图形加工的媒介,目前最先进的技术是13.5nm的极紫外线,能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸,相当于从地球上发射出了一束手电光。
      (2)反射镜问题,它可以把模板上的电路图等比例缩小,在硅片上以电路图的形式呈现出来。拿顶尖的反射镜举个例子,假设差不多半米直径的镜面是德国国土面积那么大,那么其局部的凹凸不能超过1mm。
      (3)工作台问题。光刻机的工作台控制了芯片在制造生产中的纹路刻蚀,工作台的移动精度越高,所加工的芯片精度就越高。这一点上,就连世界第一科技强国莓国也一直没有突破。
      这三点,共同构成了整个可以团队现在面临的问题,而且基本上是按次序来的,必须逐个解决。
      苏酥直接投入了光源问题的研究。
      苏酥改进了之前的方法,用激光去不断轰击滴落下来的金属锡滴液,在进行连续轰击之后,激发出euv等离子体,获得波长更短的光。
      经过一系列的改进,半个月后,苏酥终于获得了2nm的光源,比现在世界上最先进的13.5nm的光源还先进了好几个台阶。
      当苏酥欣喜地把自己的实验成果展现给整个研究小组的人看的时候,研究小组的人都惊呆了,真的是2nm的光源!
      他们又仿照了苏酥的步骤,果然得到了2nm的光源,这下全场爆发出雷鸣般的掌声。这些纯粹的科学家们互相拥抱击掌,庆祝这一突破。
      当然,开心过后,每个人也都签了一份保密协议:未经允许,谁也不准把这项技术交给其他人。
      接下来便是反射镜的问题,苏酥花了一个月,在研究了反射镜的原理以及发展方向后,果断地对多层膜反射镜进行了改良,研究出超级镜。
      其反射性能之强,也远超现在最先进的蔡司系列,尤其是反射效率,达到了惊人的91%,几乎是现在平均水平的两倍。
      这下,研究小组的人彻底麻木,甚至有些人已经躺平,来帮助苏酥处理吃喝的事情,让苏酥专心攻克最后一个难题。
      负责人甚至打趣道:
      “苏酥留下,剩下的人都滚蛋,在这白吃白喝,啥用都没有。”
      当然众人都知道负责人是在开玩笑,他对他们这些科学家可是当宝贝一样对待。
      当然,最后一个难题在苏酥手里也是小菜一碟。
      苏酥经过研究实验后发现,在国际都在单工作台思路上努力时,可以使用双工作台,在一个工作台完成扫描曝光的同时,另一个工作台也可以同时进行对准、调焦、下片等操作,这样准度可以大幅度提高。
      其他科学家听了这个思路后大呼可行,于是找来专业的工程人员,按照苏酥的指示,设计出了配套的双工作台。
      众人实验后,大呼牛逼!
      这简直就是他们梦想的工作台啊!

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